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设备性能

产能： Up to 8000 wafers/hour

设备有效利用率：≥97%

碎片率：M12≤0.01%

硅片规格

硅片厚度：≥160 μm

硅片尺寸：182*182-230*230mm

花篮类型：Low-surface carrier （LSC）made by PVDF

花篮片间距：4.76mm

花篮容量：100 wafers

机械臂系统

机械臂：8 sets

伺服马达：16 PC

抬起时间：Less than 22 sec 

设备尺寸 

长*宽*高：27300*3200*2650mm

方向

工作方向：Left→Right  / Right→Left（TBD）

电力供应

供电：AC380V 3PH+PE+N 50Hz（TBD）

控制电源：DC 24V

满载电源：230KW/175KW

建议最大保险丝规格：225A/135A

安装要求

最小地面承重：750Kg/㎡

最低车间高度：3.5m

无尘室级别：ISO7(10K Class)

环境温度：17℃＜RT＜30℃

最大湿度：70%